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发表于 2024-5-27 10:10:24 |显示全部楼层
塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)指出,该设备可确保生产 350纳米的芯片。


什帕克告诉媒体:“大家组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”


在全球范围内,这种复杂程度的设备由几家主要企业组装,其中最大的是荷兰的 ASML 企业以及佳能和尼康。


目前,台积电和SAMSUNG利用ASML的EUV光刻技术,已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后,但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言,这一进展无疑是一则喜讯。这意味着,俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破,有望减少对外部技术的依赖,提升国内产业的自主性和竞争力。

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